中国視察ツアー

中国における知的財産権とＲ＆Ｄの諸問題と最新動向


従来、中国の知的財産権といえば、模倣品対策が主なものであった。
しかし、中国の経済発展に伴い、現実は凄まじいスピードで変化している。
とくに、中国にＲ＆Ｄ(研究開発)センターを設置している日本企業等が増加している今日では、知的財産権問題はどんどん高度化・複雑化してきている。

本セミナーでは、東京と北京を頻繁に往復しているからこそ分かる中国の知財問題の最新動向を紹介するとともに、実務上の留意点及び解決策を提示することを目的とする。

キーワード：中国、特許、Ｒ＆Ｄ、職務発明、技術流出防止、知財侵害紛争



セミナー開催概要
中国知的財産セミナー
中国における知的財産権とＲ＆Ｄの諸問題と最新動向

日　時： 2011年6月13日(月)　12:30-16:30
場　所： 東京大田区産業プラザ
講　師： 森・濱田松本法律事務所 弁護士/博士(法学) 遠藤誠氏
内　容：
　１.中国の知的財産権をめぐる戦略と政策
　　(1)中国は「世界の工場」から「巨大消費市場」、そして「R&Dセンター」へ！
　　(2)自主創新（イノベーション）政策
　　(3)国家知財戦略綱要
　２.中国知的財産法の概要
　　(1)日中間の法制度の違い
　　(2)特許法
　　(3)著作権法
　　(4)不正競争防止法　
　　(5)契約法
　　(6)技術輸出入管理条例
　３.職務発明
　　(1)職務発明とは
　　(2)職務発明者に付与すべき奨励と報酬
　　(3)実務上の対策
　　(4)紛争事例の紹介
　４.技術流出防止
　　(1)関連法令の内容
　　(2)紛争事例の紹介
　　(3)実務上の対策
　５.特許侵害紛争
　　(1)法的対抗手段の種類と内容
　　(2)特許侵害訴訟の実際の流れ
　　(3)特許侵害訴訟における実務上の留意点
　＜質疑応答＞
参加費：1名39,900円(税込、資料付)
　　　　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき29,400円
　　　　＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引
詳細、お申込方法についてはこちらをご参照下さい。